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发明专利
已授权
一种异质结双极晶体管及其制备方法
📄 申请号:CN202010215352.4
📄 发布日:2026/05/07
著录项目信息
申请日
2020-03-24
公开号
CN111244169B
公开日
2021-03-19
申请人
燕山大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01L29_737
IPC 分类号
H01L29_737
,
H01L29_08
,
H01L21_331
,
技术画像
所属领域
异质结双极晶体管
半导体器件
异质结器件
半导体制造工艺
异质结双极晶体管
应用场景
射频通信, 微波电路, 功率放大器, 光通信, 雷达系统
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摘要
本发明提供一种异质结双极晶体管及其制备方法。本发明的异质结双极晶体管由于发射区和基区具有相同的物理结构,有效的降低了发射区和基区之间的寄生效应,提高了器件的频率特性;发射区宽度90纳米,有效降低了基区的本征电阻;集电区两侧采用嵌入式SiGe结构,在双轴应变的同时引入了单轴应变,将有效的降低载流子在集电区的传输时间,该结构同时减小了有效集电区宽度,降低了集电结电容,进一步提高了器件的频率特性;适当的选择Si帽层的厚度,可以有效降低界面处载流子的堆积,提高器件的增益;同时该双极晶体管的制备方法完全可以和90纳米的CMOS工艺兼容,有效的降低了器件的开发和制作成本。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
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