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发明专利
已授权
一种SiO2/青蒿素抗菌纳米粒子的制备方法及应用
📄 申请号:CN201610764172.5
📄 发布日:2026/06/04
著录项目信息
申请日
2016-08-29
公开号
CN106173806A
公开日
2016-12-07
申请人
江苏大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
A23L3_358
IPC 分类号
A23L3_358
,
A23L3_3472
,
A23B4_24
,
A23B4_20
,
技术画像
所属领域
纳米材料
纳米材料
药物递送
抗菌材料
应用场景
生物医药, 抗菌治疗, 药物载体, 纳米制剂
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摘要
本发明属于抗菌剂及食品添加剂领域,具体涉及一种SiO2/青蒿素抗菌纳米粒子的制备方法及应用。使用纳米SiO2吸附青蒿素,制成抗菌纳米粒子,再结合等离子体协助处理,可以提高青蒿素在水中的溶解性,且具备一定的缓释效果,从而提高青蒿素的生物利用度,达到高效利用与长效抗菌的目的。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
一种可食用抗菌复合膜的制备方法与用途
当前第 / 件
硫氢化钠在促进豆芽下胚轴生长中的应用
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