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| 专利/申请号: | CN202110914932.7 | 专利名称: | 一种异质结注入的沟槽型GaN绝缘栅双极型晶体管 |
| 申请日: | 2021-08-10 | 申请/专利权人 | 重庆邮电大学 |
| 专利类型: | 发明 | 地址: | 重庆市南岸区黄桷垭崇文路2号 |
| 专利状态: | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号: | H01L29/20 分类检索 |
| 公开/公告日: | 2021-11-05 | 转让价格: | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号: | CN113611738A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量: | 45 | 所属领域: | 半导体器件 功率电子器件专利转让搜索 |
应用场景:中高压电力转换系统;高效能源传输与管理设备
摘 要:本发明涉及一种异质结注入的沟槽型GaN绝缘栅双极型晶体管,属于功率半导体器件领域。该晶体管呈左右对称结构,左半边结构包括P+集电极、N‑漂移区、P‑沟道区、N+发射极衬底、绝缘介质层、栅极金属接触区、集电极金属接触区、发射极金属接触区Ⅰ、发射极金属接触区Ⅱ和Al组分渐变区。本发明基于N+型GaN衬底材料上,采用从上至下为P/N/P/N的沟槽型IGBT垂直器件结构,通过较低掺杂的P+AlGaN集电极层就可以实现P+AlGaN/GaN较高的空穴注入比,同时,还在P+AlGaN/GaN异质结界面处引入x渐变的AlxGa1‑xN渐变层,以减少器件导通压降,提高器件输出电流。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
| 专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
| 专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
| 解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
| 专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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| 2021109149327 | 【发明】一种异质结注入的沟槽型GaN绝缘栅双极型晶体管 | 2025/09/23 |
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