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发明专利
已授权
一种具有电子积累效应的鳍式EAFin-LDMOS器件
📄 申请号:CN202110362550.8
📄 发布日:2026/06/04
著录项目信息
申请日
2021-04-02
公开号
CN113097310A
公开日
2021-07-09
申请人
重庆邮电大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01L29_78
IPC 分类号
H01L29_78
,
H01L29_06
,
技术画像
所属领域
功率半导体器件
功率半导体器件
LDMOS器件
鳍式场效应晶体管
应用场景
功率集成电路, 射频功率放大器, 通信基站, 电源管理, 电力电子
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摘要
本发明涉及一种具有电子积累效应的鳍式EAFin‑LDMOS器件,属于半导体技术领域。该器件分为:衬底、埋氧层和器件上面部分;其中器件上面部分包括:栅氧化层;栅氧化层外侧部分:从左至右依次是源极P+区、源极N+区、P‑body、漂移区和漏极N+区;栅氧化层内侧部分:从左至右依次是栅极P+区、栅极P‑body、控制结构的漂移区、控制结构的漏极N+区和控制结构的漏极P+区。本发明在器件中使用了电子积累效应,并采用了鳍式结构,在保持较高的击穿电压下大幅度降低Ron,sp,最终提高了Baliga优值FOM。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
一种基于镜像对称法的反射阵列天线单元
当前第 / 件
一种生物组织切片机
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