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摘 要:本发明公开了一种深紫外LED芯片、深紫外LED外延片及其制备方法,其中,制备方法包括:在衬底上生长AlGaN缓冲层,并在AlGaN缓冲层上生长N型AlGaN层;在N型AlGaN层上生长Al组分渐变的N型AlGaN层,并在Al组分渐变的N型AlGaN层上生长Al0.5Ga0.5N/Al0.15Ga0.85N有源区;在Al0.5Ga0.5N/Al0.15Ga0.85N有源区上生长AlGaN阻挡层,并在AlGaN阻挡层上生长P型GaN层。本申请公开的上述技术方案,由于生长Al组分渐变的N型AlGaN层在生长有源区之前,因此,则不会引起有源区能带结构发生变化,从而可以提高深紫外LED芯片的发光效率。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201811527141.3 | 专利名称: | 深紫外LED芯片、深紫外LED外延片及其制备方法 |
申请日: | 2018-12-13 | 申请/专利权人 | 广东工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 广东省广州市越秀区东风东路729号大院 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L33/32搜分类 集成电路 L LED芯片搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |