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摘 要:本发明涉及一种具有表面和体内双沟道的横向超结薄层SOI‑LDMOS器件,属于半导体功率器件技术领域。该器件在传统表面栅薄层SOI‑LDMOS器件上,在埋氧层处额外引入体内栅极并在漂移区引入P型埋层,优点:(1)在正向导通时,该器件的表面与体内同时形成两个导电沟道,使电子的注入能力有很大的提升,从而降低器件的比导通电阻。引入的P型埋层提高了漂移区N型层的浓度进而优化器件的正向导通性能,最终降低器件的比导通电阻。(2)在击穿时,P型埋层优化漂移区的电场强度分布,P型埋层与N型层相互耗尽从而使漂移区发生电荷补偿效应。(3)在埋氧层引入体内栅极,提高了器件的跨导gm,从而使栅极电压对电流的控制能力增强。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202011417175.4 | 专利名称: | 一种具有表面和体内双沟道的横向超结薄层SOI-LDMOS器件 |
申请日: | 2020-12-04 | 申请/专利权人 | 重庆邮电大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 重庆市南岸区黄桷垭崇文路2号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/78搜分类 表 L 器件搜索 |
公开/公告日: | 2023-03-14 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN112420846B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2023/03/14 | 授权 | |
2021/03/16 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): H01L 29/78 专利申请号: 202011417175.4 申请日: 2020.12.04 |
2021/02/26 | 公开 |