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发明专利
已授权
一种低压伺服离散线性自抗扰控制方法
📄 申请号:CN202110677419.0
📄 发布日:2026/08/04
著录项目信息
申请日
2021-06-16
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H02P21_00
IPC 分类号
H02P21_00
,
H02P21_13
,
H02P21_14
,
H02P21_18
,
H02P21_22
,
技术画像
所属领域
自动控制系统
自动控制系统
伺服控制
自抗扰控制
应用场景
工业自动化, 伺服系统, 精密运动控制, 机器人控制, 数控机床
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摘要
一种低压伺服离散线性自抗扰控制方法,根据伺服电机的电流微分方程和运动方程确定低压伺服驱动器速度环和电流环被控对象阶数,根据被控对象阶数确定线性自抗扰控制器的阶数,先对于速度环和电流环设计连续线性自抗扰控制器,再通过欧拉离散法将连续的控制器离散化,确定连续控制器和离散控制器各个矩阵的对应关系;利用参数辨识的方法对电机的转动惯量和电感参数进行辨识,用于设计线性自抗扰控制器的补偿因子,将电流环的数字控制器延时考虑在参数整定中,整定出相应的参数。本发明使线性自抗扰控制器的离散模式运用在低压伺服驱动器中,借助于离散线性自抗扰控制算法可以提高永磁同步电机控制系统的稳定性、抗干扰性、快速性、鲁棒性等。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
一种用于低温高压反应原位在线监测的石英反应釜装置
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委托待转让
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未申报
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