发明专利 已授权

基于二次椭圆模型的非平飞双站SAR频域FENLCS成像方法

📄 申请号:CN201910584338.9 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2019-07-01
公开号
CN110596701B
公开日
2021-09-28
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

遥感成像, 军事侦察, 地形测绘, 环境监测

摘要

本发明公开一种基于二次椭圆模型的非平飞双站SAR频域FENLCS成像方法:首先进行了距离向预处理,即在距离向应用了线性距离走动矫正、KT变换、一致距离徙动矫正、二次距离压缩。其次,进行了方位空变的残余高阶距离徙动矫正处理。根据距离向预处理结果,本发明提出了二次椭圆模型,用于准确描述等距点接收机斜视角与波束中心斜距的方位空变特性。本发明提出基于二次椭圆模型的改进的FENLCS成像处理方法,实现了残余多普勒中心、多普勒调频率和高次相位系数随方位位置空变的特性的去除,进而完成方位统一聚焦处理。此外,提出了一种频域高次非空变预滤波方法,简化了FENLCS算法的推导过程,提高聚焦质量。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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