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实用新型
已授权
一种防漏气的单晶硅片真空加热装置
📄 申请号:CN202320579347.0
📄 发布日:2026/06/05
著录项目信息
申请日
2023-03-23
公开号
CN219385297U
公开日
2023-07-21
申请人
德兴市意发功率半导体有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
C23C14_22
IPC 分类号
C23C14_22
,
C23C14_56
,
C23C16_44
,
C23C16_46
,
F16J15_06
,
技术画像
所属领域
单晶硅
半导体制造设备
真空加热设备
密封结构
加热装置
单晶硅
应用场景
半导体晶圆制造, 集成电路制造, 单晶硅片热处理, 真空热处理, 光伏电池片生产
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摘要
本实用新型公开了一种防漏气的单晶硅片真空加热装置,其包括:真空加热箱、电加热管、密封圈和接头,所述真空加热箱顶部设置有密封板,所述密封板上间隔设置有与电加热管一一对应的安装孔,所述安装孔上方设置有安装座,所述安装座顶面内凹设置有与安装孔连通的锥形孔,所述接头设置在安装座上,所述接头顶部外圆上设置有一圈环形的压圈,所述接头外壁设置有与锥形孔对应的圆锥面,所述电加热管设置在接头的下方并向下延伸至真空加热箱中,所述密封圈设置在压圈的底面与安装座的顶面之间。本实用新型所述的防漏气的单晶硅片真空加热装置,通过锥形孔与圆锥面的配合,进行密封,并利用密封圈进行密封效果的加强,避免漏气问题。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
一种半导体器件无损测试装置
当前第 / 件
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