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本实用新型公开了一种用于溅射工艺的掩膜板，属于溅射工艺技术领域，包括基板，所述基板的上端面设置有耐高温掩膜板，所述耐高温掩膜板的上端面设置有电阻层，所述耐高温掩膜板的平面区域内刻有镂空图形结构；通过薄膜磁控溅射机溅射电阻层，使溅射出的电阻金属粒子通过耐高温掩膜板的缕空图形沉积在底部的基板上，再将耐高温掩膜板移除，从而达到基板上直接出现电阻图形的效果，在后期进行蚀刻电镀工艺时，则不用为了蚀刻底层电阻膜层而更换蚀刻溶液，从而减少蚀刻工艺，达到简化步骤和提高刻蚀效率的效果。

本发明公开了一种OLED基板蒸镀设备，涉及显示器部件制造技术领域，包括蒸发源，与蒸镀机内壁固定连接的支撑框架，支撑框架上安装有掩膜板，掩膜板上设置有基板本体；掩膜板周边以及中心区域均固定安装有连接套筒，并在连接套筒内部设置有支撑脚，并在支撑脚内部安装有安装轴体，其中安装轴体内部设置有吸盘单元，安装轴体一端安装有圆形盘架，连接套筒底部固定安装有电性磁板，且圆形盘架靠近电性磁板的表面为磁性面，此OLED基板蒸镀设备，通过电性磁板与圆形盘架磁性面之间的磁性关系，使得圆形盘架控制安装轴体和其内部的吸盘单元进行位置调整，从而控制基板本体进行相应的位置调整，以实现自动调整基板本体与掩膜板之间距离的目的。

本发明提供了一种内嵌金属网格型透明导电薄膜的制备方法，属于激光微纳加工和透明导电薄膜领域。首先在基底上旋涂一层PVP，然后利用激光束在PVP/基底上刻蚀网格阵列形状的凹槽；通过磁控溅射镀膜仪在经激光刻蚀过的PVP/基底表面和凹槽内溅射一层的金属；溅射完将金属/PVP/基底置于乙醇中去除PVP和PVP表层的金属，即可得到内嵌金属网格/基底。本发明在保证薄膜光学性能的同时，可最大程度地提高电学性能，其操作简单、不需要配制金属颗粒墨水和掩膜，对设备无特殊要求，制备成本低。