专利交易市场

本发明涉及离子束技术领域，具体涉及一种利用原位溅射结合离子束刻蚀的抛光装置及抛光方法。其包括传递室、刻蚀室、溅射沉积室以及设于传递室与刻蚀室，刻蚀室与溅射沉积室之间的插板阀，传递室、刻蚀室和溅射沉积室内设有三者之间传送工件的工件传送装置。以及应用此设备发明的一种抛光方法，其流程为：首先在传递室装载工件，其次在刻蚀室对工件离子束清洗，再次在溅射沉积室对工件溅射沉积一层薄膜层（牺牲层），进而在刻蚀室对工件进行离子束修正抛光，最后通过传递室取出工件，实现光学元件的抛光。

本发明公开了一种曲面粒子源，其包括曲面放电靶材、水冷套、接线柱、绝缘套、磁靴、（多组）筛网、进气、固定组件，通过接线柱将曲面放电靶材接通负电压，会产生辉光放电，受放电电极形状影响，电子束汇合发生空心阴极放电效应，阳极即可是水冷进气管亦可筛网，阳极加正电即可接收电子，又可加速粒子输出，筛网可加负电，可作为粒子的引出极，三种电极的配合，可获得大量高能粒子，放电阴极是由多组金属基片拼接并可在其表面钎焊非金属材料并通过螺栓固定在由不锈钢管表面焊接水冷盘管的水冷套上，绝缘套可实现各个组件之间绝缘，磁靴组件内置磁铁。本发明利用环形阴极放电过程中的空心阴极效应为pvd涂层制备过程中提供高能粒子。

本发明涉及一种镍锌氧化合物光电薄膜及其制备方法，借助双阴极辉光等离子放电作用在Ni基体表面溅射沉积锌氧化合物薄膜，将基体用丙酮进行超声清洗，之后将预处理好的基体放入等离子体炉内的试样台上完成样品表面锌氧化合物薄膜的制备。本发明以高纯金属元素为靶材，为了提高元素反应的供应量和供应效率，在基片和靶材周围形成双层辉光等离子放电，成膜仅需要10‑30min。本发明通过元素的溅射反应形成大面积高质量的复合透明薄膜电极，薄膜的厚度在5‑10微米。本发明得到的薄膜表面质量高，且制备方法已较为成熟，成本低，无污染，工艺流程较为简单，对基体本身的性能几乎无影响，不会损伤基体。