本发明公开了一种纳米复合MeSiCN涂层的制备装置及其制备方法，在真空室内无需增加额外结构设计，并能够有效解决现有多弧离子镀工艺中加入含有碳、氮和硅元素的有机硅气体后，靶表面很容易生成导电差的反应物，导致放电不稳定、基体获得电流降低，涂层质量不好的问题；本发明在金属靶前通入有机硅气体后，金属蒸汽和反应气体被磁场增强脉冲多弧发射出来的高密度电子离化，沉积在工件表面形成MeSiCN纳米复合涂层；本发明具有设备和工艺简单、沉积速度快、成本低、膜基结合强度高等优点。
📄 2022102561575
📂 C23C14_32
👤 浙江工业大学
📅 2022-03-16
本发明涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种多级触发脉冲电弧源装置，包括石墨阴极、阴极安装柱、绝缘套筒、触发放电阳极环、一级点火电极、二级点火电极，沿面击穿陶瓷、二级点火电极支撑座、绝缘套筒、二级点火电极引线柱、二级点火电源、一级点火电源、脉冲电弧电源、一级点火电极引线柱、一级点火电极触针、一级点火级固定筒、阳极环固定装置、脉冲电弧源阳极和真空室法兰；本发明采用逐级放大的方式，完成脉冲电弧的放电，完成靶材材料的蒸发，具有高真空条件下电弧放电、脉冲电弧放电瞬时电流大、膜层沉积效率高、靶材利用率高的技术特点。
📄 2022106022742
📂 C23C14_32
👤 安徽工业大学
📅 2022-05-30
本发明公开了一种电弧阴极磁过滤镀膜装置，属于真空镀膜技术领域，包括真空腔室、挡板组件、工件转架、两个电弧阴极组、四个第二真空室、两个第一真空室、第一线圈组、第二线圈组、第三线圈组；所述工件转架、所述挡板组件均设置在所述真空腔室的内部，所述挡板组件与真空腔室活动连接并接地。本发明将过滤系统放大，使等离子体局部横穿真空室的特点，则镀膜的区域就被放大了，同时通过接地的大型挡板，能够有效地阻断等离子体从真空腔室一侧向另一侧的传输，进而阻挡等离子体穿越工件转架区域后直接到达另一端电弧阴极位置，能使大型的工件转架浸入等离子体中，进而完成大面积地均匀沉积。
📄 2021107460311
📂 C23C14_32
👤 安徽工业大学
📅 2021-07-01
本发明公开了梯度陶瓷镍多层膜及其化学热处理制备方法；包括如下步骤：在需要表面强化的具有碳化物或氮化物形成能力的金属基体表面利用物理气相沉积方法交替沉积第一步和第二步所述的靶材，对样品进行加压热处理，促进金属元素层间互扩散；对样品进行渗碳处理或渗氮处理渗碳处理或渗氮处理，使过渡金属/镍多层膜转变为陶瓷/镍多层膜。本发明方法制备的梯度陶瓷/镍多层膜具有渐变的层厚、层厚比以及陶瓷晶粒尺寸，形成梯度结构多层膜，提高了多层膜的强韧性；同时，加压热处理以及通过渗碳或渗氮形成陶瓷层的工艺促进了层间界面的金属元素互扩散，形成了具有冶金结合的高强度层间界面和膜基界面，显著提高了膜层的综合力学性能。
📄 2021108133641
📂 C23C14_32
👤 西安理工大学
📅 2021-07-19
本发明涉及薄膜与涂层制备技术领域，具体为一种紧凑高效的准扩散弧冷阴极弧源。准扩散弧冷阴极弧源由弧源头与控制磁场组组成，弧源头包括靶材、靶材底座、靶材底座屏蔽罩、靶材底盘、引弧装置和永久磁体装置，控制磁场组包括法兰套、法兰套绝缘套、二极径向旋转磁场发生装置、轴向聚焦导引磁场发生装置、同轴聚焦磁场磁轭和法兰套屏蔽罩，弧源头通过靶材底盘与法兰套底部进行连接，形成整体弧源结构，通过法兰套前部的法兰盘与炉体进行连接。在一定磁场强度和旋转频率综合作用下，使得弧斑在整个靶面分布，降低弧斑的功率密度，实现准扩散弧状态，减少大颗粒的发射，同时通过轴向聚焦导引磁场，将净化的高密度等离子体抽出，提高其传输效率。
📄 2012104443141
📂 C23C14_32
👤 温州职业技术学院
📅 2012-11-08
本发明属于电弧离子镀技术关键部件阴极弧源装备领域，具体是指一种多模式调制弧源装置，包括弧头组件、引弧组件、安装板，弧头组件与引弧组件均固定在安装板上；弧头组件与安装板之间设有绝缘密封组件，弧头组件与安装板之间形成密封腔室；弧头组件包括阴极座、阴极盖，阴极座、阴极盖可拆卸安装组成阴极组件；阴极座远离阴极盖的一侧表面上设有靶材安装部，靶材安装部内连接有靶材；阴极座与阴极盖之间设有水冷内腔；阴极座及阴极盖上可分别装配不同模式的永磁体组，可有效控制靶面的磁场强度，提升弧光放电过程中弧斑的运动速度，从而可以有效的降低弧光放电过程中的大颗粒。
📄 2020104129337
📂 C23C14_32
👤 温州职业技术学院
📅 2020-05-15
本发明公开了一种增强弧源、以及弧电流激发的气体离子源、金属离子源和电子源，其技术方案主要包括：水冷外筒体，设置于外筒体内一端的金属阴极弧靶，外筒体的另一端为出射口，设置于金属阴极弧靶与出射口之间的可开闭的多种挡板，通过挡板机构可选择性的进行粒子输出，外筒体上设置有进气口，所述的外筒体相对于阳极和阴极金属弧靶之间区域的外壁上设有多种形式的外磁体。本发明通过挡板机构可选择性的进行粒子输出，利用阳极与磁场交互作用提高电子的自由程，从而能够与工作气体以及金属原子产生更多的碰撞，进而提高离化效率和离子产率，将所需粒子进行引出，达到高效离化的效果。
📄 2018101629220
📂 C23C14_32
👤 苏州乔戈里精密机械有限公司
📅 2018-02-26
本发明属于液压泵制造技术领域，具体涉及一种提高高压液压泵零件耐磨性的方法。通过物理气相沉积技术进行表面渗碳及涂层处理以制备抗磨高压液压泵的方法，将碳化物涂层、PVD方法、渗碳技术以及多层复合结构的优点相结合，在碳化物涂层与工件基体间通过离子溅射的方法制备一个渗碳扩散层，即对零件表面先通过离子溅射的方法进行表面渗碳处理，然后再采用离子镀和磁控溅射复合方法沉积HfMoZrTiC/Mo多层复合涂层，以减缓涂层与基体材料的物理性能差异，提高基体材料的硬度，增强涂层与基体的附着性能，从而改善液压泵零件的耐磨性等综合性能，有效提高表面处理效率和工件的使用寿命。
📄 2019110441785
📂 C23C14_32
👤 济宁学院
📅 2019-10-30
本实用新型为真空离子镀膜设备的移动平台定位机构，涉及真空镀膜领域，解决了目前用于真空离子镀膜移动平台的定位方式主要为插销方式，插销的特点是结构简单、部件少，但在装载平台时，需要人为来判断插销是否对准插孔上方，并且转架在滑动过程中，时常需要人为来判断，以防掉落，所以效率较低，且人为判断失误率较高，移动平台较重，一但由于惯性划过了插孔就会导致移动平台掉落，很容易砸伤操作者，使产品及移动平台受损的问题。技术特征包括:底座以及移动平台。使用方便，利用率高，结构相对简单，使用方便。
📄 2023224111602
📂 C23C14_32
👤 青岛制高点科技有限公司
📅 2023-09-06
本发明涉及一种镀膜机,包括基座，基座底部设有可固定滑轮，基座上设有壳体，壳体内部设有保温层，保温层内部形成的内腔底部设有升降台，升降台上设有转轴，转轴上设有工作台，工作台上设有夹具，内腔上设有多个等距加热器，加热器连接弧电源，弧电源连接电弧蒸发源，电弧蒸发源连接多弧耙，多弧耙连接电磁感应线圈，电磁感应线圈连接引弧针，引弧针连接振动感应器，振动感应器连接控制器，控制器上设有报警器，控制器连接反应气体管道，反应气体管道上设有截止阀，反应气体管道下侧设有惰性气体管道，惰性气体管道上设有单向阀。本发明结构简单，占地面积小，提高镀膜工作效率，自动化生产，提高精确度，加热速度快、均匀性强，延长使用寿命。
📄 2018105308604
📂 C23C14_32
👤 马鞍山松鹤信息科技有限公司
📅 2018-05-29
本实用新型为一种真空离子镀膜炉管状料装夹支架，涉及真空离子镀膜领域。包括：中间主梁，其竖直设置在真空离子镀膜炉内部，中间主梁上下两端部分别设置有上转盘、下转盘；上转盘的下表面边缘位置设有顶部插头，下转盘的上表面边缘位置设有与顶部插头对应的底部插头；顶部插头通过弹性伸缩杆与上转盘连接；其中，在弹性伸缩杆的弹性力之下推动顶部插头以使管状料被装夹固定在顶部插头与底部插头之间。本装置在弹性伸缩杆的弹性力之下推动顶部插头以使管状料被装夹固定在顶部插头与所述底部插头之间，无需夹持管件外壁的前提下，还能方便快捷的实现对管件的两端部位的夹持固定，提高对管件固定的效率，更便于管状料的真空离子镀膜工作。
📄 2023207222318
📂 C23C14_32
👤 青岛华庆海洋科技有限公司
📅 2023-04-04
已申报项目
本发明涉及一种多弧离子镀膜用弧源机构及其冷却方法,通过集水储存、喷淋循环、快速电冷却以及水冷风冷复合散热的方式,实现了对弧源的高效智能冷却。该弧源机构包含弧源组件、集水机构、循环喷淋机构、冷却机构、散热机构、水冷机构及温控机构。集水机构对冷却水进行储存,隔温板实现保温隔热。循环喷淋机构利用泵和喷头实现冷却水的循环喷淋,增强对靶材的吸热效果。冷却机构中设置具有快速吸收和释放大量热量功能的制冷芯片,对储水进行降温处理。水冷机构利用外部水冷辅助散热。温控机构监测水温并控制各机构的工作。该弧源机构中各单元模块配合工作,形成闭路循环,可快速吸收靶材的热量,对冷却水进行降温,确保弧源高效、稳定的冷却支持。
📄 2023116656965
📂 C23C14_32
👤 金华星源五金制品有限公司
📅 2023-12-06
柿子坊 · 知识产权运营
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