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本发明公开一种基于多源共蒸技术的薄膜监测制备装置及方法。该装置的工件盘固定于真空室的顶部且可沿其中心旋转；离子源设置于真空室的底部，且离子源的中心与工件盘的中心位于同一直线上；蒸发源至少包括两个阻蒸源和一个电子枪蒸发源；蒸发源均设置于真空室的底部，且等间距设置于离子源的四周；蒸发源均配有挡板；制备薄膜时，光学膜厚监测系统实时监测工件盘上任一位置所加载的基片上薄膜的光学厚度，并反馈给控制中心；控制中心用于薄膜制备参数的输入以及薄膜制备过程的控制。该方法遵循阻蒸源制备高、中折射率级别膜层，电子枪蒸发源制备低折射率级别膜层的制备原则。通过本发明能够实现多成分多级别复合光学薄膜的制备与光学膜厚监测。

本发明涉及一种基于微型压电传感器的薄膜参数监测方法，其包括如下步骤：1），提供需要制备薄膜的厚度与模量目标值；2），开始制膜，制膜过程中，数据处理单元通过基于微型压电传感器的薄膜参数提取方法，实时监测薄膜的厚度与模量预估值；显示单元将预估值显示；3），将步骤2）监测的薄膜厚度与模量的预估值，和步骤1）的目标值比较，控制单元根据比较关系判断完成制膜的时间节点，从而控制镀膜反应炉停止制膜。本发明的基于微型压电传感器的薄膜参数监测方法可以有效提高薄膜厚度与模量的监测精度，有效评估薄膜沉积质量，对高性能高质量沉积薄膜的制备具有重要意义。

本实用新型公开了一种双门自动镀膜装置，包括装置主体，所述装置主体的两侧均铰接安装有密封门，且装置主体与密封门相邻的两侧内壁上均固定安装有电动伸缩杆，两个电动伸缩杆的输出轴上均固定安装有第二电机，两个第二电机的输出轴上均固定套接有操作块，所述装置主体与密封门相邻的一侧固定安装有第一电机，第一电机的输出轴上固定套接有调节丝杆，调节丝杆上螺纹套接有丝杆导套。本实用新型结构简单、使用方便，所述的一种双门自动镀膜装置，相对于现有技术，可调节镀膜装置中的预加热装置的，加热角度及位置，使得被加热处理的工件受热均匀，大大增加了后续镀膜的效率。