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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN201510317313.4 | 专利名称: | 用于高速低功耗相变存储器的Ga |
申请日: | 2015-06-10 | 申请/专利权人 | 江苏理工学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省常州市钟楼区中吴大道1801号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L45/00分类检索 半导体专利转让搜索 |
公开/公告日: | 2017-09-29 | 转让价格: | 面议 【平台担保交易】 |
公开/公告号: | CN104900807B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要:本发明公开了一种用于高速低功耗相变存储器的Ga40Sb60/Sb类超晶格相变薄膜材料,为多层复合膜结构,由Ga40Sb60层和Sb层交替沉积复合而成,将Ga40Sb60层和一层Sb层作为一个交替周期,后一个交替周期的Ga40Sb60层沉积在前一个交替周期的Sb层上方。本发明的Ga40Sb60/Sb类超晶格相变薄膜材料利用超晶格结构中多层界面的夹持效应,减小晶粒尺寸,从而缩短结晶时间,抑制晶化,使材料在提高热稳定性的同时加快相变速度;并且Ga40Sb60/Sb类超晶格相变薄膜材料在相变过程中体积改变小,这就保证了相变层与电极材料之间良好的接触,最终提高相变存储器件的稳定性和可靠性。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |