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摘 要:本发明公开了一种用于相变存储器的GeSb基掺氮纳米薄膜材料及其制备方法,化学组成通式为(Ge10Sb90)xN1‑x,其中x=0.50~0.90。与传统的Ge2Sb2Te5相变薄膜材料相比,本发明的GeSb基掺氮纳米薄膜材料具有较快的晶化速度,能够大大提高PCRAM的存储速度;另外GeSb基掺氮纳米薄膜材料具有较高的晶化温度和激活能,从而能够极大的改善PCRAM的稳定性。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201510067700.7 | 专利名称: | 用于相变存储器的GeSb基掺氮纳米薄膜材料及其制备方法 |
申请日: | 2015-02-09 | 申请/专利权人 | 江苏理工学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省常州市钟楼区中吴大道1801号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L45/00搜分类 半导体搜索 |
公开/公告日: | 2017-09-29 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN104659209B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |