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摘 要:一种氮化镓高电子迁移率晶体管,涉及半导体技术领域;包括HEMT外延片、源极、栅极和漏极,所述HEMT外延片顶部包括AlGaN势垒层和与AlGaN势垒层上表面连接的钝化层,所述源极和漏极分别穿过所述钝化层与AlGaN势垒层表面形成欧姆接触,所述栅极底部设有半圆弧形栅结构,所述栅极穿过所述钝化层且所述半圆弧形栅结构延伸至AlGaN势垒层内部形成肖特基接触。本实用新型的栅极底部设有半圆弧形栅结构,该半圆弧形栅结构的应用可降低了栅下及边缘处的电子浓度,缓解电场集中效应,提升器件的击穿电压;同时半圆弧状栅结构的引入减薄了势垒层的厚度,提升器件的栅控能力和响应速度,降低了噪声比。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202221689805.8 | 专利名称: | 一种氮化镓高电子迁移率晶体管 |
申请日: | 2022-06-29 | 申请/专利权人 | 河源市众拓光电科技有限公司 |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | 广东省河源市高新技术开发区高新五路、泥金路西边 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/778搜分类 半导体搜索 |
公开/公告日: | 2023-05-26 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN219085984U | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |