发明专利已授权

便于维护保养的磁控溅射制备ITO薄膜的系统

📄 申请号：CN201710288617.1 📄 发布日：2025/09/08

著录项目信息

申请日

2017-04-27

公开号

CN107043916B

公开日

2019-08-02

申请人

柳州豪祥特科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C23C14_35

IPC 分类号

C23C14_35 , C23C14_08 , C23C14_02 , C23C14_50 , C23C14_56 ,

技术画像

所属领域

磁控溅射技术磁控溅射技术真空镀膜设备薄膜沉积工艺

应用场景

显示器件制造, 触摸屏制造, 光伏电池镀膜, 透明导电薄膜生产, 真空镀膜加工

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摘要

本发明公开了一种便于维护保养的磁控溅射制备ITO薄膜的系统，包括：依次相连的预热腔、沉积腔、冷却腔、成品腔和真空泵以及控制面板。所述沉积腔的两侧壁上设置有ITO靶材和磁体，所述沉积腔的上部的开口上设置有顶盖，所述顶盖的下方活动连接有具有夹层的中空的输气板，所述输气板的下表面均匀开设有多个通孔，以使反应气体由所述夹层通入沉积腔，所述沉积腔的下表面上均匀设置有若干支柱，所述支柱可上下运动；所述成品腔内设置有多个格栅，以将所述成品腔均匀分隔为多个隔室。其采用流水线式的制备系统，使得成膜效率大大提高，且成膜均匀质量高。同时所述系统方便系统的清洁和维护，减轻了维护保养的工作量，提高了工作效率。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20190802

✅ 授权

20170908

?? 实质审查的生效：

20170815

📄 公开

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议价

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📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：75 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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