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本发明公开了一种便于维护保养的磁控溅射制备ITO薄膜的系统，包括：依次相连的预热腔、沉积腔、冷却腔、成品腔和真空泵以及控制面板。所述沉积腔的两侧壁上设置有ITO靶材和磁体，所述沉积腔的上部的开口上设置有顶盖，所述顶盖的下方活动连接有具有夹层的中空的输气板，所述输气板的下表面均匀开设有多个通孔，以使反应气体由所述夹层通入沉积腔，所述沉积腔的下表面上均匀设置有若干支柱，所述支柱可上下运动；所述成品腔内设置有多个格栅，以将所述成品腔均匀分隔为多个隔室。其采用流水线式的制备系统，使得成膜效率大大提高，且成膜均匀质量高。同时所述系统方便系统的清洁和维护，减轻了维护保养的工作量，提高了工作效率。

本实用新型公开了新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，涉及磁控旋转圆柱靶技术领域，为解决现有的磁控旋转圆柱靶的溅射性能还不够稳定，溅射效率不够高的问题。所述旋转圆柱靶的一端安装有侧边固定块，所述旋转圆柱靶的另一侧安装有连接传动套，所述连接传动套的另一侧安装有固定限位板，所述固定限位板的另一侧安装有固定腔体套，所述固定腔体套的另一侧安装有传动陶瓷轴承，所述传动陶瓷轴承的另一侧安装有部件安装架，所述部件安装架另一侧的上方安装有伺服电机，所述伺服电机的下方安装有电器工作箱，所述部件安装架的另一端设置有连接固定套，所述连接固定套的内侧安装有内部固定片。