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摘 要:本发明公开了一种具有非均匀体二极管的SiC MOSFET器件,n型4H‑SiC衬底上表面依次设有缓冲层、漂移区及电流扩展层,电流扩展层中间隔嵌有p阱区,每个p阱区中嵌有一个n+源区,每个n+源区中嵌有一个p+接触区;相邻p阱区的上端面共同覆盖有一个栅氧化层,该栅氧化层同时覆盖在部分n+源区以及n+源区之间电流扩展层上表面,栅氧化层上表面设有多晶硅栅,栅氧化层和多晶硅栅的外表面共同包裹有隔离介质层;在p+接触区、n+源区以及隔离介质层之上共同覆盖有源极;n型4H‑SiC衬底下表面设有漏极;栅极覆盖于隔离介质层上表面并与多晶硅栅相连。本发明的结构,显著提升了SiC MOSFET器件的可靠性。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202010364664.1 | 专利名称: | 一种具有非均匀体二极管的SiC MOSFET器件 |
申请日: | 2020-04-30 | 申请/专利权人 | 西安理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 陕西省西安市碑林区金花南路5号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/78搜分类 电子元器件 C IC 均匀 F 电子设备和元器件搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |