实用新型 已授权

一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置

📄 申请号:CN202521495026.8 📄 发布日:2026/09/03

著录项目信息

申请日
2025-07-17
公开号
CN224430687U
公开日
2026-06-30
申请人
玛奇纳米科技(苏州)有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

工模具涂层, 零部件表面强化, 装饰镀膜, 光学镀膜, 电子产品表面处理

摘要

本实用涉及一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置,属于真空离子镀膜技术领域,所述真空离子镀膜箱的一侧面设置有箱门,所述箱门的一侧面在真空离子镀膜箱的内部连接有移动板,所述移动板的上表面安装有电机,所述电机的驱动端连接有转轴,所述转轴的上端连接有转盘,所述转盘的上表面中间位置处设置有第二安装杆,所述第二安装杆的外部安装有放置盘,所述转盘的上表面还对称设置有第一安装杆,所述第一安装杆的外部对称设置有悬挂钩。通过移动板在真空离子镀膜箱内滑动,即移动板下表面的安装块在安装槽的内部滑动,这样即可实现将悬挂钩与放置盘上的材料进行快速的取放料,从而不需要工作人员伸手进入到真空离子镀膜箱内部来取放料。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:6 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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