发明专利已授权

一种高频振荡脉冲磁控溅射方法

Name: 一种高频振荡脉冲磁控溅射方法
Brand: 西安理工大学
SKU: 2019108119219
Availability: InStock

📄 申请号：CN201910811921.9 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2019-08-30

公开号

CN110468381A

公开日

2019-11-19

申请人

西安理工大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C23C14_35

IPC 分类号

C23C14_35

技术画像

所属领域

磁控溅射磁控溅射薄膜沉积表面处理技术

应用场景

半导体制造, 光学涂层, 刀具涂层, 装饰镀膜, 功能薄膜制备

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摘要

一种高频振荡脉冲磁控溅射方法，包括以下步骤，1)将等待镀膜的样品分别浸泡在丙酮和酒精溶液中超声波清洗，吹干，放置于真空腔内样品工件架上，抽真空，通入氩气；2)开启高频振荡脉冲型靶电源和脉冲负偏压基体电源对样品表面进行离子轰击清洗，离子清洗时间20～40min，3)通入反应性气体，真空腔内真空度达到0.4～1.2Pa，接通可调节电感将脉冲靶电压，薄膜沉积时间20～180min；4)薄膜沉积完成后，关闭高频振荡脉冲电源、脉冲负偏压基体电源、反应气体阀门和工件架旋转机构，待真空腔内温度降至室温后将镀膜样品取出；具有高离化率、制备薄膜组织致密、性能良好的特点。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN110468381A

购买这项专利需要经过哪些流程？

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该专利的转让价格是多少？

当前标价为议价，可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20210810

✅ 授权

20191213

?? 实质审查的生效：

20191119

📄 公开

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当前第 / 件

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：53 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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一种高频振荡脉冲磁控溅射方法

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所属领域

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