实用新型已授权

一种用于磁控溅射设备的旋转样品台

📄 申请号：CN202022042727.X 📄 发布日：2026/01/16

著录项目信息

申请日

2020-09-17

公开号

CN213327817U

公开日

2021-06-01

申请人

山东沐东真空科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

C23C14_50

IPC 分类号

C23C14_50 , C23C14_35 ,

技术画像

所属领域

磁控溅射设备磁控溅射设备真空镀膜设备薄膜沉积设备

应用场景

半导体制造, 光学镀膜, 表面处理, 薄膜制备, 真空镀膜

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摘要

本实用新型公开了一种用于磁控溅射设备的旋转样品台，包括柜体和展示轮，柜体上表面的两侧均开设有安装槽，安装槽的内部转动连接有展示轮，展示轮的中心处固定连接有转轴，转轴的中部套接有传动带，传动带的底部套接有传动电机，柜体的两端均设置有滑杆和阻尼杆，滑杆远离柜体的一端滑动连接有定位螺栓，定位螺栓的表面螺纹连接有显示屏本体，显示屏本体两侧的下端均固定连接有连接块。本实用新型通过传动电机、传动带、转轴和展示轮的设置，当成品制作完成后，人员可将覆在不同产品上的成品均放在展示轮上，在展示的过程中，通过传动电机带动传动带、转轴和展示轮旋转，在旋转时能够有效的将多种样品展示出来供人员观看。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20210601

✅ 授权

一种磁控溅射设备的换样片装置

当前第 / 件

一种冷壁法CVD沉积装置

同领域国内专利 · IPC: (C23C14_50)

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：83 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 已报项目

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