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| 专利/申请号： | CN202022042738.8 | 专利名称： | 一种冷壁法CVD沉积装置 |
| 申请日： | 2020-09-17 | 申请/专利权人 | 山东沐东真空科技有限公司 |
| 专利类型： | 实用新型 | 地址： | 山东省聊城市阳谷县博济桥办事处谷山路南段(建委对过) |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | C23C16/458 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2021-06-01 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN213327826U | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 3 | 所属领域： | 半导体材料制备技术 化学气相沉积 工艺设备 薄膜晶体管制造专利转让搜索 |
应用场景：集成电路制造中的介质层/金属互连层沉积;先进封装中的三维堆叠结构生长;化合物半导体器件外延层制备;光伏电池钝化层涂覆
摘 要：本实用新型公开了一种冷壁法CVD沉积装置，包括底座、沉积管、马达和弹性块，所述底座的底表面固定安装有沉积箱，沉积箱的顶端内部贯穿安装有沉积管，所述沉积管的内部中间固定安装有轴座，轴座中间设有框架，且框架通过轴杆转动安装在轴座的中间，所述框架的内部开设有嵌口，嵌口的内部一侧开设有第二凹口，嵌口的内部另一侧设有第一凹口，第一凹口开设在抵板的内部。本实用新型在沉积管的内部中间固定安装了一个可翻转的框架，将需要加工的晶片嵌入固定在框架内部，在沉积加工晶片一面后工作人员可控制马达转动框架使其晶片另一面可被加工，达到了方便工作人员使用以及节省时力和材料的效果。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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