实用新型已授权

一种冷壁法CVD沉积装置

📄 申请号：CN202022042738.8 📄 发布日：2026/05/18

著录项目信息

申请日

2020-09-17

公开号

CN213327826U

公开日

2021-06-01

申请人

山东沐东真空科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

C23C16_458

IPC 分类号

C23C16_458 , C23C16_44 ,

技术画像

所属领域

半导体制造设备半导体制造设备薄膜沉积技术化学气相沉积

应用场景

半导体制造, 集成电路, 光伏器件, 平板显示, 新材料制备

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摘要

本实用新型公开了一种冷壁法CVD沉积装置，包括底座、沉积管、马达和弹性块，所述底座的底表面固定安装有沉积箱，沉积箱的顶端内部贯穿安装有沉积管，所述沉积管的内部中间固定安装有轴座，轴座中间设有框架，且框架通过轴杆转动安装在轴座的中间，所述框架的内部开设有嵌口，嵌口的内部一侧开设有第二凹口，嵌口的内部另一侧设有第一凹口，第一凹口开设在抵板的内部。本实用新型在沉积管的内部中间固定安装了一个可翻转的框架，将需要加工的晶片嵌入固定在框架内部，在沉积加工晶片一面后工作人员可控制马达转动框架使其晶片另一面可被加工，达到了方便工作人员使用以及节省时力和材料的效果。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20210601

✅ 授权

一种用于磁控溅射设备的旋转样品台

当前第 / 件

一种电子设备真空蒸发散热装置

同领域国内专利 · IPC: (C23C16_458)

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