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摘 要:本发明提供了一种基于正离子注入的增强型AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管,自下而上依次包括:衬底、成核层、非掺杂GaN缓冲层、GaN沟道层、AlGaN势垒层,以及在AlGaN势垒层上分别引出的源极、栅极和漏极;与此同时,在栅极下方的GaN沟道层中设置一个正离子注入区。一方面,当栅极下方的GaN沟道层注入正离子之后,相当于在能带上增加了势垒高度,拉升了势阱,从而实现了沟道内二维电子气(2DEG)的耗尽,成为增强型器件;另一方面,正离子注入可以有效降低AlGaN势垒层的表面损伤和缺陷,减少表面态和缺陷,有效抑制电流崩塌,从而提高器件的输出电流,最终改善器件的输出功率和可靠性。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202110179118.5 | 专利名称: | 一种基于正离子注入的增强型AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管 |
申请日: | 2021-02-08 | 申请/专利权人 | 金陵科技学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省南京市江宁区弘景大道99号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/778搜分类 半导体搜索 |
公开/公告日: | 2023-06-16 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN112736140B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |