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一种可余辉光监测缓释抗菌的锗酸锌基质纳米材料及其制备方法

Name: 一种可余辉光监测缓释抗菌的锗酸锌基质纳米材料及其制备方法
Brand: 江南大学
SKU: 2021106334078
Availability: InStock

📄 申请号：CN202110633407.8 📄 发布日：2026/09/30

著录项目信息

申请日

2021-06-07

公开号

CN113425684A

公开日

2021-09-24

申请人

江南大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

A61K9_14

IPC 分类号

A61K9_14 , A61K47_02 , A61K49_00 , A61K33_06 , A61K33_24 , A61K33_26 , A61K33_32 , A61K33_34 , A61K33_38 , A61P17_02 , A61P31_04 , B82Y5_00 , B82Y20_00 , B82Y30_00 , B82Y40_00 , C09K11_58 ,

技术画像

所属领域

纳米材料纳米材料长余辉发光材料抗菌材料

应用场景

生物医用材料, 医疗器械, 伤口敷料, 抗菌涂层, 药物缓释系统

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摘要

本发明公开了一种可余辉光监测缓释抗菌的锗酸锌基质纳米材料及其制备方法，属于抗菌纳米材料制备领域。本发明所述锗酸锌基质抗菌纳米材料的化学组成通式为Zn2GeO4:xM，0.001≤x≤0.02，其中，Zn2GeO4为基质，M为具有抗菌作用的金属离子。本发明中的锗酸锌基质抗菌纳米材料经水热法合成，制备简单，成本低，可用于工业化生产；材料在细菌感染部位具有优异的广谱抗菌性能，金属离子缓释可以长期维持较高的抗菌浓度，抗菌周期长，诱导细菌产生耐药性的可能性极小；在细菌感染部位微酸性环境中，材料的余辉光强度随着材料的降解变化，利用其余辉光强度变化可以实现感染部位抗菌过程的实时监测。

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

光敏抗菌的改性卟啉金属有机骨架材料及其制备方法

当前第 / 件

一种微杆菌XL1及其在产Levan果聚糖中的应用（需要二次变更）

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