发明专利 已授权

一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法

📄 申请号:CN202010870325.0 📄 发布日:2026/09/20

著录项目信息

申请日
2020-08-26
公开号
CN112052640B
公开日
2024-09-27
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

集成电路制造, 半导体光刻, 芯片设计, 光掩膜生产, EDA工具

摘要

本发明公开一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法。本发明方法准确率高,鲁棒性好,且对与多种类型的样例具有通用性;采用的核心算法是Delaunay逐点插入法,原理简单,占用内存少,容易完成,执行效率高。同时,由于在对三角网数据处理时中采用了二维vector,空间复杂度可以表示为O(N2),N为样例给出的点数。本发明能够有效实现集成电路版图光掩膜中心线的提取,并且最小化中心点列数量,准确率和速度也能满足工程上的要求。

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是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN112052640B

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:3 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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