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发明专利
已授权
一种纳米复合MeSiCN涂层的制备装置及其制备方法
📄 申请号:CN202210256157.5
📄 发布日:2026/08/04
著录项目信息
申请日
2022-03-16
公开号
CN114672774B
公开日
2024-03-01
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C23C14_32
IPC 分类号
C23C14_32
,
C23C14_06
,
B82Y40_00
,
技术画像
所属领域
纳米复合材料
纳米复合材料
表面涂层技术
薄膜制备工艺
应用场景
切削刀具涂层, 模具涂层, 耐磨防护涂层, 高温防护涂层, 耐腐蚀涂层
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摘要
本发明公开了一种纳米复合MeSiCN涂层的制备装置及其制备方法,在真空室内无需增加额外结构设计,并能够有效解决现有多弧离子镀工艺中加入含有碳、氮和硅元素的有机硅气体后,靶表面很容易生成导电差的反应物,导致放电不稳定、基体获得电流降低,涂层质量不好的问题;本发明在金属靶前通入有机硅气体后,金属蒸汽和反应气体被磁场增强脉冲多弧发射出来的高密度电子离化,沉积在工件表面形成MeSiCN纳米复合涂层;本发明具有设备和工艺简单、沉积速度快、成本低、膜基结合强度高等优点。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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