发明专利 已授权

制备高通量薄膜的磁控溅射装置及其制备高通量薄膜的制备方法

📄 申请号:CN201911313706.2 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2019-12-19
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

新材料研发, 半导体薄膜, 光学镀膜, 新能源材料, 功能材料筛选

摘要

一种制备高通量薄膜的磁控溅射装置,包括基体、基片台、圆筒、带齿圆环和掩模组件,所述带齿圆环安装在圆筒的上端处,所述掩模组件安装在圆筒的下端处,所述基体位于圆筒内且与带齿圆环可转动连接,基片台安装在基体的底部上,所述基体上设有第一真空电机,第一真空电机的电机轴上设有第一齿轮,所述第一齿轮与带齿圆环的齿形结构啮合,第一真空电机用于驱动基体相对于掩模组件旋转。本发明提供了一种制备高通量薄膜的磁控溅射装置及其制备高通量薄膜的制备方法,该装置结构简单,适用于小型的磁控溅射镀膜机上,一次抽气完成实验并且不需要进行额外的靶材更换操作,就可以按照不同靶材制备出组分呈连续渐变式梯度分布的三元高通量薄膜。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
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