发明专利 已授权

一种热蒸发镀膜方法及其装置

📄 申请号:CN201510496271.5 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2015-08-14
公开号
CN105002465A
公开日
2015-10-28
申请人
西安工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光学镀膜, 电子器件制造, 装饰涂层, 功能薄膜制备

摘要

本发明涉及真空镀膜技术领域,具体涉及一种热蒸发镀膜方法及其装置。所述镀膜的实现方法是:从蒸发源扩散出来的膜料粒子,在其传输到基片表面的过程中,允许部分的膜料粒子通过通道传输到基片表面,实现薄膜沉积,其余的膜料粒子受到遮挡,无法沉积到基片上,通道位于基片和蒸发源之间,调节通道通-阻的比例和变换快慢,实现对膜料粒子的扩散控制。本发明同时提供可以实现该方法的装置。本发明的方法和装置结构简单,成本低廉,系统紧凑,能根据需要对沉积频率和占空比进行调节,实现对膜厚和结构的有效控制。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:26 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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