真空镀膜 - 专利交易市场|柿子坊知识产权运营平台

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法律状态：全部已授权审中

项目申报：全部报过没有报过

发明已授权

本发明涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种热蒸发镀膜方法及其装置。所述镀膜的实现方法是：从蒸发源扩散出来的膜料粒子，在其传输到基片表面的过程中，允许部分的膜料粒子通过通道传输到基片表面，实现薄膜沉积，其余的膜料粒子受到遮挡，无法沉积到基片上，通道位于基片和蒸发源之间，调节通道通-阻的比例和变换快慢，实现对膜料粒子的扩散控制。本发明同时提供可以实现该方法的装置。本发明的方法和装置结构简单，成本低廉，系统紧凑，能根据需要对沉积频率和占空比进行调节，实现对膜厚和结构的有效控制。

📄 2015104962715 📂 C23C14_26 👤 西安工业大学 📅 2015-08-14

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一种热蒸发镀膜方法及其装置

2015104962715 · 西安工业大学

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