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发明专利
已授权
一种低应力类金刚石薄膜的制备方法
📄 申请号:CN201910348527.6
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2019-04-28
公开号
CN110106470A
公开日
2019-08-09
申请人
陕西越碳新材科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C23C14_06
IPC 分类号
C23C14_06
,
C23C14_34
,
技术画像
所属领域
类金刚石薄膜
类金刚石薄膜
真空镀膜
薄膜沉积技术
应用场景
刀具涂层, 模具涂层, 汽车零部件, 医疗器械, 精密机械
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摘要
本发明涉及一种低应力类金刚石薄膜的制备方法。本发明的目的是要在保证DLC薄膜的光学透过率及硬度的基础上,减小其应力。所提供的技术方案是:一种提高类金刚石薄膜抗激光损伤能力的方法,是在DLC及介质薄膜的表面形成具有闭环的磁通路,且使闭环的磁通量具有最大的梯度。所提供的装置包括导磁外框,在外框内设置有一对永磁铁,第一永磁铁和第二永磁铁,第一永磁铁和第二永磁铁的距离可调。利用本发明的方法,对于DLC薄膜可以将损伤阈值从0.57 J/cm2提高到1.23 J/cm2。对于介质薄膜,可以使激光损伤面积减少50%左右。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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