发明专利 已授权

一种抛物面顶环形天线式金刚石膜沉积装置

📄 申请号:CN202010675801.3 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2020-07-14
公开号
CN111945137A
公开日
2020-11-17
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

金刚石涂层刀具, 光学窗口, 半导体散热, 耐磨涂层, 精密工具制造

摘要

本发明涉及一种抛物面顶环形天线式金刚石膜沉积装置,包括微波发生单元;圆柱形上腔体,内部设置抛物面顶;抛物面顶构成环形天线,用于将微波反射并汇聚;抛物面顶内顶部设置可调反射部,可调反射部能够上下调节;圆柱形上腔体具有进气口;圆柱形上腔体内具有微波通道,用于将微波导入抛物面顶内,微波通道的微波输入口连接微波发生单元;圆柱形下腔体,底部设置圆柱形下反射体,圆柱形下反射体中部开孔设置可调节式沉积台,可调节式沉积台上设置用于沉积金刚石膜的基片;圆柱形下反射体设置出气口。可调反射部和可调节式沉积台的设置,强化了微波谐振腔的调谐手段,可以实时优化等离子体的分布,实现高质量和高效率的金刚石膜制备。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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