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发明专利
已授权
一种增强弧源、以及弧电流激发的气体离子源、金属离子源和电子源
📄 申请号:CN201810162922.0
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2018-02-26
公开号
CN108441826B
公开日
2023-07-18
申请人
苏州乔戈里精密机械有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C23C14_32
IPC 分类号
C23C14_32
,
C23C14_46
,
C23C14_35
,
C23C14_02
,
技术画像
所属领域
离子源技术
离子源技术
电弧等离子体技术
电推进技术
应用场景
航天器电推进, 卫星离子推进, 空间电推进器, 离子束材料表面处理, 真空等离子体镀膜
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摘要
本发明公开了一种增强弧源、以及弧电流激发的气体离子源、金属离子源和电子源,其技术方案主要包括:水冷外筒体,设置于外筒体内一端的金属阴极弧靶,外筒体的另一端为出射口,设置于金属阴极弧靶与出射口之间的可开闭的多种挡板,通过挡板机构可选择性的进行粒子输出,外筒体上设置有进气口,所述的外筒体相对于阳极和阴极金属弧靶之间区域的外壁上设有多种形式的外磁体。本发明通过挡板机构可选择性的进行粒子输出,利用阳极与磁场交互作用提高电子的自由程,从而能够与工作气体以及金属原子产生更多的碰撞,进而提高离化效率和离子产率,将所需粒子进行引出,达到高效离化的效果。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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