发明专利已授权

离子注入跑片装置及离子注入跑片方法

📄 申请号：CN201810398127.1 📄 发布日：2026/01/04

著录项目信息

申请日

2018-04-28

公开号

CN108766916B

公开日

2024-07-30

申请人

赵素清

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H01L21_677

IPC 分类号

H01L21_677 , H01L31_18 ,

技术画像

所属领域

离子注入离子注入晶圆传输半导体制造设备

应用场景

半导体制造, 晶圆加工, 集成电路工艺, 半导体掺杂

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摘要

本发明公开了离子注入跑片装置及离子注入跑片方法。该离子注入跑片装置包括水平进出传送区、垂直输送缓冲区、单个水平传送区及垂直输送储存区。离子注入跑片方法包括如下步骤：将硅片置于拖盘上隔板的下方，其中一排离子注入孔正对硅片的第一位置；将托盘运送至一真空腔中，在真空腔中运送托盘至第一离子处；将第一离子通过隔板的第一排离子注入孔注入至硅片的第一位置；隔板相对所述托盘移动位置，以使第二排离子注入孔正对硅片的第二位置；将第二离子通过隔板的第二排离子注入孔注入至硅片的第二位置；将托盘移出所述真空腔。本发明所述离子注入跑片装置，离子注入方便、快速、成本低、制作的硅片质量好。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20250826

?? 专利权的转移：

20240730

✅ 授权

20190906

⏳ 专利申请权的转移：

20181130

?? 实质审查的生效：

一种电磁线加工去静电设备

当前第 / 件

一种风电工程建设安全风险预警装置

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¥12660.0 元

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：136 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

资金托管权属尽调包过户

🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

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