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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN201810398127.1 | 专利名称: | 离子注入跑片装置及离子注入跑片方法 |
申请日: | 2018-04-28 | 申请/专利权人 | 苏州帕萨电子装备有限公司 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省苏州市太仓市城厢镇锦州路18号2幢 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号: | H01L21/677 分类检索 |
公开/公告日: | 2024-07-30 | 转让价格: | 【平台担保交易】 |
公开/公告号: | CN108766916B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
浏览量: | 7 | 所属领域: | 半导体专利转让搜索 |
应用场景:集成电路生产线中的离子掺杂工艺;功率器件制造中的杂质注入;先进封装环节的精准改性;科研实验中的小批量试制
摘 要:本发明公开了离子注入跑片装置及离子注入跑片方法。该离子注入跑片装置包括水平进出传送区、垂直输送缓冲区、单个水平传送区及垂直输送储存区。离子注入跑片方法包括如下步骤:将硅片置于拖盘上隔板的下方,其中一排离子注入孔正对硅片的第一位置;将托盘运送至一真空腔中,在真空腔中运送托盘至第一离子处;将第一离子通过隔板的第一排离子注入孔注入至硅片的第一位置;隔板相对所述托盘移动位置,以使第二排离子注入孔正对硅片的第二位置;将第二离子通过隔板的第二排离子注入孔注入至硅片的第二位置;将托盘移出所述真空腔。本发明所述离子注入跑片装置,离子注入方便、快速、成本低、制作的硅片质量好。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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