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| 专利/申请号： | CN201410252749.5 | 专利名称： | 多相低介电常数材料层的制造方法 |
| 申请日： | 2014-06-09 | 申请/专利权人 | |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | 分类号： | H01L21/768 分类检索 |
| 公开/公告日： | 转让价格： | 【平台担保交易】 | |
| 公开/公告号： | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 | |
| 浏览量： | 52 | 所属领域： | 低 港口专利转让搜索 |
摘 要：本发明公开一种多相低介电常数材料层的制造方法，包括以下步骤：在真空条件下先于硅基底上以电子束蒸镀方式蒸镀一层80nm厚的铝薄膜；再蒸镀一层5nm厚的镍薄膜形成具有金属薄膜的硅片；通过等离子体增强化学气相沉积方法在金属薄膜的硅片上沉积一层碳纳米管层形成碳纳米管层基材层；将八甲基环四硅氧烷、环己烷混合均匀并注入耐压不锈钢釜内，将八甲基环四硅氧烷、环己烷带入炉体内，八甲基环四硅氧烷、环己烷、鼓泡气体在等离子条件下在基底表面沉积一薄膜层。本发明使得薄膜的成型强度较高，性能均一，克服了一般材料机械强度差，局部容易塌陷，各区域性能迥异的缺点。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 2020/11/24 | 专利权的转移 | 登记生效日: 2020.11.11 专利权人由苏州大学变更为李明 地址由215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号变更为210000 江苏省南京市鼓楼区中央北路230号1090 |
| 2017/01/25 | 授权 | |
| 2014/09/17 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): H01L 21/768 专利申请号: 201410252749.5 申请日: 2014.06.09 |
| 2014/08/20 | 公开 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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