实用新型 已授权

一种低成本往复式磁控溅射镀膜生产线

📄 申请号:CN202220624763.3 📄 发布日:2026/09/11

著录项目信息

申请日
2022-03-21
公开号
CN217052383U
公开日
2022-07-26
申请人
南通理工学院
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

装饰镀膜, 工具镀膜, 光学镀膜, 电子器件镀膜, 汽车零部件镀膜

摘要

本实用新型公开了一种低成本往复式磁控溅射镀膜生产线,包括能往复传输基材的带式输送线,所述带式输送线上设有若干能相互连通的腔室,各个腔室之间均设有闸板阀,所述腔室至少包括镀膜工艺腔室,所述镀膜工艺腔室内固定设置有靶材,所述靶材沿所述带式输送线的横向设置,形成阴极磁场的磁铁沿所述靶材横向排列,阴极磁场的磁力线顶端方向与基材传输方向平行。本实用新型使用后等离子体在靶材跑道径向的刻蚀在基片径向方向上均匀分布,消除了跑道深度梯度变化对薄膜均匀性的影响,且本方案还降低了大规模生产的设备投入成本。

常见问题

这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN217052383U

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
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📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:63 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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