发明专利已授权

一种含铝和硼元素的高熵合金靶材及其制备工艺

📄 申请号：CN201811407752.4 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2018-11-23

公开号

CN109234690A

公开日

2019-01-18

申请人

西安工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C23C14_34

IPC 分类号

C23C14_34 , B22F3_105 , C22C1_05 , C22C30_02 , C22C30_06 ,

技术画像

所属领域

高熵合金高熵合金靶材合金材料

应用场景

物理气相沉积, 半导体薄膜制备, 表面涂层, 光学镀膜, 耐磨涂层

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摘要

本发明公开了一种含铝和硼元素的高熵合金靶材的制备工艺，由以下步骤组成：以铝粉和第一金属粉为配料，在氩气保护下采用机械合金化法，制备得到铝合金粉；将铝合金粉与含硼的第二粉末混合，采用球磨法进行研磨；将研磨后的含铝和硼的合金粉末放置于石墨磨具中，在真空中采用放电等离子烧结法对合金粉末进行烧结；烧结后对石墨磨具冷却脱模得到含铝和硼的合金靶材；该工艺可以准确地控制B元素含量，且各元素成分及含量在较大的范围内便于调控；可以避免硼元素在加工过程中大量挥发；可以避免因铝元素的加入导致烧结温度过低引起靶材结合性差；所得到的合金靶材成型性好，相对密度较高，孔隙率相对较低，晶粒尺寸小，各成分分布均匀。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种高熵合金氮化物涂层的高硬度材料及其制备方法

当前第 / 件

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同领域国内专利 · IPC: (C23C14_34)

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