发明专利已授权

一种紧凑高效的准扩散弧冷阴极弧源

📄 申请号：CN201210444314.1 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2012-11-08

申请人

温州职业技术学院

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C23C14_32

IPC 分类号

C23C14_32

技术画像

所属领域

真空镀膜设备真空镀膜设备阴极电弧沉积技术离子镀技术

应用场景

工具镀膜, 装饰镀膜, 硬质涂层, 表面处理, 工业镀膜生产线

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摘要

本发明涉及薄膜与涂层制备技术领域，具体为一种紧凑高效的准扩散弧冷阴极弧源。准扩散弧冷阴极弧源由弧源头与控制磁场组组成，弧源头包括靶材、靶材底座、靶材底座屏蔽罩、靶材底盘、引弧装置和永久磁体装置，控制磁场组包括法兰套、法兰套绝缘套、二极径向旋转磁场发生装置、轴向聚焦导引磁场发生装置、同轴聚焦磁场磁轭和法兰套屏蔽罩，弧源头通过靶材底盘与法兰套底部进行连接，形成整体弧源结构，通过法兰套前部的法兰盘与炉体进行连接。在一定磁场强度和旋转频率综合作用下，使得弧斑在整个靶面分布，降低弧斑的功率密度，实现准扩散弧状态，减少大颗粒的发射，同时通过轴向聚焦导引磁场，将净化的高密度等离子体抽出，提高其传输效率。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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