本实用新型涉及金属化薄膜成型设备高低压开关柜技术领域，具体为一种金属化薄膜成型设备，包括盛料桶，盛料桶底部连接对接座，对接座上设置具有出料功能的连接座机构，连接座机构连接弯管；不断小角度翻转压杆，不仅使盛料桶连续产生震动，同时封堵板不断来回翻转，将搅动位于出料孔内的原料，从而避免原料堵在出料孔处，直至盛料桶内原料全部流出，此时松开压杆，在卷簧装置内卷簧作用下，使封堵板堵住出料孔。
📄 2023206002433
📂 B29C48_285
👤 扬州奇脉电子有限公司
📅 2023-03-24
本发明公开了一种磁控溅射反应设备钩挂式换样品装置，包括取样长杆，装置还包括设于取样长杆前部的圆筒状的长杆端头、样片基座，所述样片基座设有基座连接部，所述基座连接部设有侧杆，所述长杆端头前部开设有侧杆滑入槽，所述长杆端头后部安装有电磁铁，所述电磁铁设于长杆端头的后方，所述长杆端头内设有回复机构，所述回复机构连接有挂钩，所述挂钩后部设有吸合头，所述挂钩前部设有供侧杆钩挂的槽，所述挂钩绕回复机构转动时，吸合头靠近电磁铁。本发明在缩短搬运的时间，且要避免样片在搬运过程中受到损伤，以提高生产效率和成品率，本发明结构操作便捷，且能够通过鸭嘴槽进行水平方向上的小幅度调整，使其操作更为灵活。
📄 2019105322930
📂 C23C14_35
👤 浙江工业大学
📅 2019-06-19
本发明涉及薄膜与涂层制备技术领域，具体为一种紧凑高效的准扩散弧冷阴极弧源。准扩散弧冷阴极弧源由弧源头与控制磁场组组成，弧源头包括靶材、靶材底座、靶材底座屏蔽罩、靶材底盘、引弧装置和永久磁体装置，控制磁场组包括法兰套、法兰套绝缘套、二极径向旋转磁场发生装置、轴向聚焦导引磁场发生装置、同轴聚焦磁场磁轭和法兰套屏蔽罩，弧源头通过靶材底盘与法兰套底部进行连接，形成整体弧源结构，通过法兰套前部的法兰盘与炉体进行连接。在一定磁场强度和旋转频率综合作用下，使得弧斑在整个靶面分布，降低弧斑的功率密度，实现准扩散弧状态，减少大颗粒的发射，同时通过轴向聚焦导引磁场，将净化的高密度等离子体抽出，提高其传输效率。
📄 2012104443141
📂 C23C14_32
👤 温州职业技术学院
📅 2012-11-08
本发明公开了一种屈臂式混联驱动型薄膜掠射角溅射平台，涉及真空溅射镀膜技术领域。本发明包括固定外壳、固定外壳上侧装设有传动塔，传动塔上转动配合有实验盘组件，传动塔内装设有与实验盘组件相对应的屈臂控制组件；传动塔的下侧装设有位于固定外壳内的传动机构，固定外壳内壁周侧装设有与传动塔相对应的多个公转驱动机构、多个自转驱动机构。本发明能通过屈臂控制组件、公转驱动机构与自转驱动机构的配合下，使实验盘组件在传动塔上的中心传动远点处进行自转以及0‑90°的摇摆，使其具有多种旋转自由度，满足工件表面的掠射角连续溅射工艺的需求。
📄 2022105978566
📂 C23C14_35
👤 陕西工业职业技术学院
📅 2022-05-30
本发明公开一种平行臂式三自由协同驱动型薄膜掠射角溅射平台，包括外壳；外壳内安装有公转驱动组件及中央动作结构组件；中央动作结构组件包括工作台，传动塔，自转传动组件及公转传动组件；自转传动组件安装于框体内，公转传动组件安装于框体外周壁，传动塔安装于框体顶部；框体置于外壳内腔中部。本发明在保证系统可靠性、易维护性以及一定系统冗余程度的前提下，实现了载物实验盘在传动塔上端中枢传动轴为原点作自转、摇摆、公转三个自由度的独立、协同、连续、自动化控制，能够满足新要求下高新材料镀膜溅射实验所需性能指标。
📄 2022105978443
📂 C23C14_35
👤 陕西工业职业技术学院
📅 2022-05-30
本实用新型公开了一种超薄防辐射玻璃镀膜装置，包括机体，所述机体的底端安装有底座，且底座顶端的一侧安装有支撑柱，所述支撑柱的顶端安装有显示屏，所述机体内部的底端活动连接有圆盘架，且圆盘架的底端连接有电机，所述圆盘架的内侧壁上安装有固定架。本实用新型通过设置有辉光放电槽、连接轴、固定架、圆盘架和电机，使用时电机带动圆盘架和固定架整体进行旋转，完成对安装架和内部固定的玻璃板的均匀旋转，使其在高压电激发辉光放电带正电的氩离子可更加均匀的撞击阴极靶材，均匀的沉积在玻璃板上，不会存在操作死角，且辉光放电槽在机体内部的六个面上均匀的设置排列，使其放电激发更加彻底和精准高效，设备整体镀膜效果更加均匀快速。
📄 2023230763618
📂 C23C14_50
👤 安徽奕辉特种玻璃有限公司
📅 2023-11-15
本实用新型公开了一种夹持多个基板的溅射夹具，包括溅射炉、基板主体、腔体和夹头，所述溅射炉内部的顶端均匀固定有靶材原子轰击装置，所述溅射炉的下方设置有腔体，且腔体的内部均匀固定有凹槽，所述凹槽的内部均设置有转杆，且凹槽的一端固定有第二电机，所述支座内部的一端均设置有夹头，且夹头之间夹持有基板主体。本实用新型通过安装有溅射炉、靶材原子轰击装置、腔体、凹槽、夹头以及基板主体，溅射炉内部的顶端均匀固定有靶材原子轰击装置，靶材原子轰击装置的底部均设置有溅射口，溅射口下方的腔体中均匀通过夹头夹持有基板主体，基板主体与溅射口相垂直，便于直接接受到溅射出的金属离子，使得成膜速度较快，镀膜更加均匀。
📄 2020204648438
📂 C23C14_50
👤 无锡元核芯微电子有限责任公司
📅 2020-04-02
已申报项目
一种用于制备BiGaO3薄膜的真空反应腔，包括有多个分隔空间，分别用于通入铋前驱体气体、镓前驱体气体、氧前驱体气体、惰性气体；BiGaO3薄膜材料采用前驱体自限制性表面吸附反应得到，化学吸附反应在真空反应腔中进行。通过采用本发明的制备BiGaO3薄膜材料的方法，可以实现BiGaO3薄膜生长厚度的精确可控，且BiGaO3薄膜表面平整度大大优于现有技术。由于各种气体的通入是连续不断、且流速恒定，薄膜的厚度仅取决于衬底转过的次数，工艺变得极为简单、可靠。
📄 2017105793164
📂 C23C16_40
👤 南通大学技术转移中心有限公司
📅 2015-11-11
本实用新型公开了一种有效提高薄膜密度的卷对卷电子束镀膜设备,包括位于上方的卷绕室、下方的镀膜室。镀膜室与卷绕室通过镀膜主辊旁边的缝隙相连，所述卷绕室内设有卷绕系统、在线膜厚测试仪、等离子预处理系统，所述卷绕室顶部连有抽真空系统，所述镀膜室内设有电子枪系统、等离子体辅助系统、等离子监测系统、晶振仪、蒸发坩埚、偏转磁场系统。本实用新型能够有效克服成膜粒子在基底上迁移能力差所引起的致密度差的问题，具有蒸发速度快，成膜质量高的特点，还能有效地解决由于电子束的高能量改变沉积薄膜的化学计量比导致的阻隔性能的变差的缺点，利用反应性气体将金属元素转化为化学计量比稳定的高阻隔氧化物层，有效提高薄膜密度。
📄 2022204113013
📂 C23C14_56
👤 浙江弘康半导体技术股份有限公司
📅 2022-02-28
本实用新型公开了一种真空镀膜机腔体的水冷装置，包括镀膜机本体，所述镀膜机本体的右侧有水箱，所述水箱的顶部固定连接有水泵，所述水泵的顶部中心处固定链接有第一水管，所述第一水管的左端活动连接有转盘，所述转盘的左侧活动连接有进水管，所述进水管的左端贯穿镀膜机本体的右侧靠近顶部处，并固定连接有螺旋管，所述螺旋管的外侧边缘与镀膜机本体的内腔侧壁为相互贴合设置，所述螺旋管的底部固定连接有出水管，通过第一水管、进水管、制冷机、螺旋管、圆盘、转盘、菱形板、第一转轴、第二转轴、圆环等机构之间的相互配合，可实现控制调节循环冷却水流的大小。
📄 2021205788435
📂 C23C14_56
👤 四川省海创电气有限责任公司
📅 2021-03-22
已申报项目
本实用新型公开了一种新型真空镀膜机，涉及到真空镀膜机领域，包括壳体、水箱和电机，所述壳体为矩形壳体，壳体的内部设有空腔，电机固定安装在空腔底部，所述电机的转轴上固定连接有主动齿轮，本实用新型的传动管把镀膜机主体体内进行镀膜工作时产生的热量传导至水箱内，散热片可以快速带走水箱上的热量，实现了在镀膜机工作的同时快速散热的目的，同时，也保证了镀膜机内部零件不会因为热量损坏，使得镀膜机能够更加稳定运行。
📄 2022225538831
📂 C23C14_56
👤 青岛大阳兴业金属制品有限公司
📅 2022-09-26
已申报项目
本发明公开了一种能够快速降温的镀膜机，包括机箱、镀膜罩、调温座、上料座、下料座和下料槽，所述机箱内部中心处安装有支撑座，所述支撑座底部中心处安装有第一伺服电机；本发明进行镀膜操作过程中，每一次转座旋转的同时分别完成一次上料、镀膜、镀膜冷却和下料的操作，能够在每一次操作过程中对限位座为位置进行精确定位，保证镀膜操作完成准确度，保证循环加工的正常进行，每一次对一个镀膜零件冷却后，第三伺服电机工作带动导热块旋转，吸收过热量的导热块旋转至半导体制冷片下方，而另一冷却后的导热块移动至限位座上方，经过半导体制冷片吸收热量传递给散热片散出进行冷却操作，快速对镀膜零件完成降温操作，提高镀膜效率。
📄 2019111843441
📂 C23C14_50
👤 安徽顺彤包装材料有限公司
📅 2019-11-27
已申报项目
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