实用新型已授权

一种用于溅射工艺的掩膜板

Name: 一种用于溅射工艺的掩膜板
Brand: 无锡元核芯微电子有限责任公司
SKU: 2020204606581
Availability: InStock

📄 申请号：CN202020460658.1 📄 发布日：2026/04/13

著录项目信息

申请日

2020-04-02

公开号

CN211848109U

公开日

2020-11-03

申请人

无锡元核芯微电子有限责任公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

C23C14_04

IPC 分类号

C23C14_04 , C23C14_35 ,

技术画像

所属领域

物理气相沉积物理气相沉积薄膜沉积工艺掩膜板

应用场景

半导体制造, 集成电路, 显示面板制造, 太阳能电池制造, 光学镀膜

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摘要

本实用新型公开了一种用于溅射工艺的掩膜板，属于溅射工艺技术领域，包括基板，所述基板的上端面设置有耐高温掩膜板，所述耐高温掩膜板的上端面设置有电阻层，所述耐高温掩膜板的平面区域内刻有镂空图形结构；通过薄膜磁控溅射机溅射电阻层，使溅射出的电阻金属粒子通过耐高温掩膜板的缕空图形沉积在底部的基板上，再将耐高温掩膜板移除，从而达到基板上直接出现电阻图形的效果，在后期进行蚀刻电镀工艺时，则不用为了蚀刻底层电阻膜层而更换蚀刻溶液，从而减少蚀刻工艺，达到简化步骤和提高刻蚀效率的效果。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN211848109U

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该专利的转让价格是多少？

当前标价为议价，可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种厚膜电路的烘干装置

当前第 / 件

一种厚膜电路的超声波清洗装置

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