物理气相沉积 - 专利交易市场|柿子坊知识产权运营平台

实用新型已授权

本实用新型公开了一种用于溅射工艺的掩膜板，属于溅射工艺技术领域，包括基板，所述基板的上端面设置有耐高温掩膜板，所述耐高温掩膜板的上端面设置有电阻层，所述耐高温掩膜板的平面区域内刻有镂空图形结构；通过薄膜磁控溅射机溅射电阻层，使溅射出的电阻金属粒子通过耐高温掩膜板的缕空图形沉积在底部的基板上，再将耐高温掩膜板移除，从而达到基板上直接出现电阻图形的效果，在后期进行蚀刻电镀工艺时，则不用为了蚀刻底层电阻膜层而更换蚀刻溶液，从而减少蚀刻工艺，达到简化步骤和提高刻蚀效率的效果。

📄 2020204606581 📂 C23C14_04 👤 无锡元核芯微电子有限责任公司 📅 2020-04-02

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一种微波介质陶瓷表面镀银的PVD工艺

发明已授权

本发明公开了一种微波介质陶瓷表面镀银的PVD工艺，采用真空平面磁控溅射镀膜，首先陶瓷件预处理清洗，进真空室加热，并对真空室抽真空；然后真空室通入氩气，进行离子清洗；最后对陶瓷件进行镀膜，包括：关闭氩气、辅助偏压，在陶瓷件上镀膜Cr层，形成打底层；在打底层上镀膜Ag/Cu/Cr合金层，形成第一过渡层；在第一过渡层上镀膜Ag/Cu合金层，形成第二过渡层；在第二过渡层上镀膜Ag层，完成镀银。本发明的真空平面磁控溅射镀膜工艺，原材料以惰性气体和固体金属靶材为主，在100‑300℃温环境下沉积金属膜；本发明制程短、工艺制程简单、工艺流程环保、成本低且单件产品能耗比低。

📄 2021102006464 📂 C23C14_35 👤 昆山市恒鼎新材料有限公司 📅 2021-02-23

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转让方：××大学
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一种用于溅射工艺的掩膜板

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