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实用新型
已授权
一种稳定高效的电子束真空镀膜设备
📄 申请号:CN202220431614.5
📄 发布日:2026/04/03
著录项目信息
申请日
2022-03-01
公开号
CN216808949U
公开日
2022-06-24
申请人
浙江弘康半导体技术股份有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
C23C14_30
IPC 分类号
C23C14_30
,
C23C14_56
,
C23C14_54
,
技术画像
所属领域
真空镀膜设备
真空镀膜技术
电子束加工
表面处理
真空镀膜设备
应用场景
光学镀膜, 工具涂层, 装饰镀膜, 半导体制造, 材料表面改性
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摘要
本实用新型公开了一种稳定高效的电子束真空镀膜设备,包括镀膜室和卷绕室两部分,镀膜室内设有镀膜系统,卷绕室内设有卷绕系统和线膜厚检测仪,卷绕室与镀膜室分别单独连接有不同真空抽速的抽真空系统,且两者间采用隔板隔开并独立抽真空,两个抽真空系统的抽速分别由镀膜原料的材料以及通入的反应气体决定。本实用新型能够有效克服由于镀膜室的局部压强差过大引起材料蒸发不均匀导致成膜质量下降等问题,具有蒸发稳定、成膜质量高的特点,还能有效地改善由于卷绕室与镀膜室的压强差过大导致材料的有效利用率降低的问题,有效提高镀膜材料的利用率,并且能有效地解决镀膜室真空度变化过大引起的电子枪产生打火的现象,有效提高电子枪的稳定性。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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委托待转让
📌 交易状态:
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未申报
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