摘要
本发明提供了一种高透防刮伤防蓝光纳米薄膜材料以及其制备方法,该材料包括氢化非晶碳化硅薄膜层(a‑SiCx:H)、氢化非晶碳薄膜层(a‑C:H)和位于两层薄膜中间的过渡层。该材料的制备方法是利用等离子增强化学气相沉积技术,设置一定的沉积参数,首先在基板上沉积硅原子含量为20%~60%的氢化非晶碳化硅薄膜。然后通过不断的改变沉积参数,沉积硅含量逐渐变化的过渡层(硅含量变化:x→0)。最后设置一定的参数,在过渡层上沉积一层氢化非晶碳薄膜。最后经过200~300℃在真空炉中退火。经过此方法制备的纳米薄膜具有高透防刮伤和防蓝光作用,可以应用在眼镜和显示屏中。