发明专利 已授权

一种快速制备超薄陶瓷片的方法

📄 申请号:CN201810688846.7 📄 发布日:2025/11/16

著录项目信息

申请日
2018-06-28
公开号
CN108893723B
公开日
2020-11-27
申请人
武汉新硅科技潜江有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

电子元器件, 陶瓷基板, 多层陶瓷电容器, 传感器, 半导体封装

摘要

本发明涉及一种快速制备超薄陶瓷片的方法,该方法利用激光化学气相沉积技术以相应的金属有机源作为前驱体原料,通过激光的活化作用在特定基板上沉积均匀的陶瓷层,然后通过烧蚀或研磨等手段将基板与制得的陶瓷层分离,最终得到单一、高致密的超薄特种陶瓷片。该方法不仅大幅降低了陶瓷片的烧结温度、有助于减少能耗,而且后处理程序简单、生产周期短、成本较低,在工业化生产方面具有巨大应用前景。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:161 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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