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发明专利
已授权
一种快速制备超薄陶瓷片的方法
📄 申请号:CN201810688846.7
📄 发布日:2025/11/16
著录项目信息
申请日
2018-06-28
公开号
CN108893723B
公开日
2020-11-27
申请人
武汉新硅科技潜江有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C23C16_01
IPC 分类号
C23C16_01
,
C23C16_40
,
C23C16_34
,
C23C16_32
,
C23C16_48
,
技术画像
所属领域
陶瓷材料
陶瓷材料
陶瓷成型工艺
薄片制备技术
应用场景
电子元器件, 陶瓷基板, 多层陶瓷电容器, 传感器, 半导体封装
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摘要
本发明涉及一种快速制备超薄陶瓷片的方法,该方法利用激光化学气相沉积技术以相应的金属有机源作为前驱体原料,通过激光的活化作用在特定基板上沉积均匀的陶瓷层,然后通过烧蚀或研磨等手段将基板与制得的陶瓷层分离,最终得到单一、高致密的超薄特种陶瓷片。该方法不仅大幅降低了陶瓷片的烧结温度、有助于减少能耗,而且后处理程序简单、生产周期短、成本较低,在工业化生产方面具有巨大应用前景。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
一种化学气相沉积设备专用挡板装置
当前第 / 件
一种ReBa2Cu3O7-x超导薄膜上制备钉扎层的方法
同领域国内专利 · IPC: (C23C16_01)
C23C16_00
C23C16_01
C23C16_02
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C23C16_18
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C23C16_30
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C23C16_458
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