发明专利 已授权

一种ReBa2Cu3O7-x超导薄膜上制备钉扎层的方法

📄 申请号:CN201810845782.7 📄 发布日:2026/09/28

著录项目信息

申请日
2018-07-27
公开号
CN108963067B
公开日
2022-04-29
申请人
武汉工程大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

所属领域

应用场景

超导电力设备, 超导磁体, 磁悬浮交通, 高场磁体, 超导储能系统

摘要

本发明提供一种ReBa2Cu3O7‑x超导薄膜上制备钉扎层的方法,涉及陶瓷材料制备技术领域。本发明为一种ReBa2Cu3O7‑x超导薄膜上制备钉扎层的方法,其特征在于,包括以下步骤:提供金属元素掺杂的ReBa2Cu3O7‑x模板层,以及在所述ReBa2Cu3O7‑x模板层表面沉积ReBa2Cu3O7‑x超导层;以及,激光照射所述ReBa2Cu3O7‑x超导层。激光照射成膜辅助沉积得到均匀的温度场和能量场,使制备的薄膜面内取向更好,且沉积速率更快、沉积温度更低,大幅度地提高高温超导在高场下的临界电流密度及磁通钉扎力,提高钇系高温超导材料性能。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

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