发明专利已授权

一种化学气相沉积设备专用挡板装置

📄 申请号：CN201610416355.8 📄 发布日：2025/11/16

著录项目信息

申请日

2016-06-14

公开号

CN105862011A

公开日

2016-08-17

申请人

武汉工程大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C23C16_44

IPC 分类号

C23C16_44

技术画像

所属领域

化学气相沉积设备化学气相沉积真空镀膜设备反应腔室内部组件化学气相沉积设备

应用场景

半导体制造, 集成电路镀膜, 光伏电池制备, 光学涂层制备, 工业防护涂层

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摘要

本发明公开了一种化学气相沉积设备专用挡板装置，包括真空转接法兰、挡板、挡板连接杆、支撑杆和手柄，真空转接法兰设置于沉积腔体的壳体上，支撑杆通过固定杆与沉积腔体连接，挡板设置于沉积腔体内，挡板与挡板连接杆一端连接，挡板连接杆的另一端横向依次穿过真空转接法兰和支架，与手柄连接，挡板连接杆通过轴承与支撑杆连接，通过前后移动手柄进而通过挡板连接杆带动挡板移动，挡板连接杆上还设有止动装置，当通过手柄带动挡板移动到合适位置时，通过止动装置对挡板连接杆止动固定。阻止沉积腔体内的源溶液蒸汽在基板上沉积，确保化学气相沉积的沉积时间为一可控的定值，减小实验误差，提高薄膜质量，该装置结构简单，操作方便，提高了工作效率。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

基于CVD技术在异形件表面制备三维金属单质薄膜的设备及方法

当前第 / 件

一种快速制备超薄陶瓷片的方法

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议价

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📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：148 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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