发明专利 已授权

一种高分子材料表面增亮耐磨镀膜工艺及其制得的光学镀膜

📄 申请号:CN202111499911.X 📄 发布日:2025/10/11

著录项目信息

申请日
2021-12-09
公开号
CN114351084B
公开日
2024-04-19
申请人
深圳市恒鼎新材料有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光学镜片, 消费电子外壳, 汽车装饰件, 精密仪器防护, 显示面板

摘要

本发明公开了一种高分子材料表面增亮耐磨镀膜工艺,其特征在于,包括以下步骤:镀氮化硅打底层步骤:在待镀膜工件表面通过溅射镀膜,镀氮化硅打底层;镀光学膜层步骤:在氮化硅打底层上镀氮化硅和碳化硅合金膜层,然后在氮化硅和碳化硅合金膜层上镀氮化硅过渡层,作为一个光学周期,镀光学膜层步骤包括若干光学周期;镀耐磨层步骤:在光学镀膜层上镀氮化硅和碳化硅合金膜层,通过上述设置,氮化硅和碳化硅合金膜层放在两层氮化硅之间,可以消除氮化硅膜层本身的应力;用氮化硅和碳化硅合金膜层作为外观膜层,能够提供更高的膜层折射率,提升膜层的光泽度和亮度,耐磨性好。本发明还公开了采用上述工艺制得的光学镀膜。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
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