咨询电话:13280638997
传真:0533-3110363
邮箱:kefu@shizifang.com
摘 要:本发明公开了一种单晶硅表面清洗方法,属于单晶硅表面处理技术领域,具体涉及采用非牛顿流体对单晶硅材料进行表面抛光处理,非牛顿流体由无机粉末、液体剂、增稠剂混合形成,无机粉末至少含有氧化铝或氧化铈,增稠剂至少含有聚乙烯醇,以及羧甲基纤维素钠、羟丙基甲基纤维素、羟乙基纤维素、聚谷氨酸改性物中至少一种;聚谷氨酸改性物为阳离子改性聚谷氨酸、胺醛化改性聚谷氨酸或杂化改性聚谷氨酸,阳离子改性聚谷氨酸由阳离子改性剂对聚谷氨酸改性得到,胺醛化改性聚谷氨酸由二乙醇胺、甲醛对聚谷氨酸改性得到,杂化改性聚谷氨酸由胺醛化改性聚谷氨酸与阳离子改性剂混合反应得到。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202211096869.1 | 专利名称: | 一种单晶硅表面清洗方法 |
申请日: | 2022-09-08 | 申请/专利权人 | 东海县太阳光新能源有限公司 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省连云港市东海县高新区麒麟大道南侧光明路6号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L21/02搜分类 半导体 芯片 集成电路搜索 |
公开/公告日: | 2023-08-04 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN115662877B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |