光刻结构和半导体结构

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摘     要：本实用新型实施例提供一种光刻结构和半导体结构，涉及半导体技术领域。半导体结构包括光刻结构，光刻结构包括抗反射层、在抗反射层上形成的热缩材料层、在热缩材料层上形成的平坦层和在平坦层上形成的光刻胶层。这样，通过在光刻胶层的下方先涂布热缩材料层，形成的光刻结构再经过后续的曝光、显影，在光刻胶层上形成光刻图案，再经过硬烤之后，热缩材料层经过均匀收缩，能够使已形成的光刻图案进一步精细化，以便于后续工艺根据光刻图案形成更精细化的微缩图案。所以，本实用新型实施例提供的光刻结构和半导体结构能够用于形成更精细化的微缩图案，为形成微缩图案创造了结构基础，并且能够运用于利用光刻工艺制作的半导体器件中。

• 1． 买家选定所需专利，确认国家手续办理方，下单，确认交易合同；
  2． 卖家确认专利可交易；
  3． 买家支付交易款项到平台；
  4． 买卖双方签订《专利转让委托书》、《转让协议》、《解除代理委托书》各一式两份并提交给办理国家手续方；
  5． 办理国家手续方提交办理官方手续，国家知识产权局1个月左右下发《著录项目变更手续合格通知书》；
  6． 买家确认收到《专利证书》、《著录项目变更手续合格通知书》；
  7． 平台把交易款项支付给卖家，至此专利转让合同完成。
  

• 交易方	企业	个人
  买家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（签字）
  	专利转让委托书（需盖公章）一式两份	专利转让委托书（需签字）一式两份
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  卖家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（需申请人签字）
  	解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请）	解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请）
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  	专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件	专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件
  	专利证原件（若授权下证）	专利证原件（若授权下证）

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