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| 专利/申请号： | CN202022808084.5 | 专利名称： | 硅片清洗室清洗系统 |
| 申请日： | 2020-11-27 | 申请/专利权人 | 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 |
| 专利类型： | 实用新型 | 地址： | 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | B08B3/02 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2021-08-31 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN214078079U | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 109 | 所属领域： | 半导体专利转让搜索 |
摘 要：本实用新型公开了一种硅片清洗室清洗系统，包括至少一根设置在硅片清洗室顶部且带有开关的第一清洗管道，所述第一清洗管道上设置有第一清洗液喷头，且所述第一清洗液喷头的喷射范围至少覆盖所述硅片清洗室内的载体、排气间隙以及机械臂。当进行硅片清洗室的清洗时，开关打开，清洗液通过第一清洗管道进入喷头内，然后将清洗液喷射在载体、排气间隙以及机械臂上，从而完成对载体、排气间隙以及机械臂的清洗，这可以有效避免盐结晶掉落在硅片上，从而提升芯片加工的良率。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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